广东电子元器件曝光机比较

省电节能，减低成本-LED发光达到某种亮度时所消耗的能量只有15瓦左右，而传统的灯达到同样亮度要消耗1500瓦的能量，即使与UV卤素灯相比，也可节省80%的能源，因此LED灯非常节能环保。2、灯源系统保用3年，使用寿命长-LED灯寿命超过2万小时。3、更的应用范围-LED灯的发光不是红外线加热，发放的热力较低，因而不会影响那些容易受热而变形的介质(像泡沫塑料板、箔膜、PVC等)在印刷过程中的传送。这样，介质的应用范围就更加了。4、反应(开关)时间快-LED灯不需要预热，可以开机后立即印刷，生产力得以提高。5、安全性高-LED灯没有UVC射线，没有臭氧释放，也不易破损。6、稳定性高-UV喷墨印刷机的印刷质量跟UV干燥固化的过程有莫大关系，LED灯的稳定性使得输出的能量是可预见的、稳定的，因此印刷效果同样是可预见的、稳定的。曝光机的使用很简单。广东电子元器件曝光机比较

曝光机通过打开光线，发射紫外线波长，将图像信息从胶片或其他透明体传输到涂有感光材料的表面的机器。曝光机在印制电路板制造工艺中，关键的过程之一是将负像传递到铜箔基板上。首先，在基板上涂覆一层感光材料（如液体感光胶、光敏防腐干膜等）。然后，涂布在基板上的感光材料被光照射以改变其溶解度。非感光部分的树脂在显影剂的作用下不聚合、溶解，感光部分的树脂留在基底上形成图像。这一工艺过程即是曝光，也就是印制电路板生产中由曝光机完成的工序。广东网版曝光机技术指导掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。

更广范围（UV，DUV，NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围:8mW/cm2~40mW/cm2支持恒定光强或恒定功率模式广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。常见曝光机举例：国制造的）紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备

解析度可达50um,相比普通曝光机100um解析度提高了一倍不产生红外线,无热辐射,避免菲林受热胀缩,提高影像转移的品质不含汞,不产生对人身有害的臭氧,使生产环境更安全、更环保传动机构采用伺服电机和线性精密导轨组合,精细、快速、高效先进的智能检测系统,当机器出现故障时,即时发出报警信号控制系统主单元采用日本三菱可编程控制器（PLC）,液晶触摸屏显示,操作界面美观、便捷；解析度可达50um,相比普通曝光机100um解析度提高了一倍；6、不产生红外线,无热辐射,避免菲林受热胀缩,提高影像转移的品质；关于曝光机您想了解什么？

紫外曝光机，也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是印刷线路板（PCB）制作工艺中的重要设备。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。昆山旺昌印刷科技为您介绍曝光机。中国台湾日本曝光机维修

买一台曝光机可以使用多久？广东电子元器件曝光机比较

对于曝光过程而言，曝光间隙的数值越小越好，但曝光间隙越小对玻璃基板的洁净程度的要求也越高。当异物(例如，污染物或微尘)进入到曝光间隙中或者落在玻璃基板上时，如果没有及时发现异物的存在而进行曝光的话，那么基板上的不明异物很有可能在曝光时对掩膜版造成污染甚至划伤(此时，需要更换掩膜版)，或者在曝光后产生质量不合格的产品，这两种情况都将导致生产成本的升高并浪费工时。，而目前所使用的曝光机多为接近式曝光机，图1示出了接近式曝光机的主要结构的示意图，该接近式曝光机可包括掩膜版1和玻璃基板2。广东电子元器件曝光机比较